传统光刻机的演变和所面临的挑战

? ? ??光刻机是诸多现代技术高度集成的产物， 这些技术是：物理学，光学，化学，福州半导体前道设备，材料科学，精密机械，精密控制，半导体前道设备，工程学等等。在过往的20几年中，深圳半导体前道设备，光刻机作为半导体制造业的重要设备，经历了很多次革命。这些变革是伴随着微处理器和dram特征尺寸的不断缩减发生的演变。 由于光刻的分辨率与曝光波长、物镜光阑孔径的关系为：分辨率=k1λ/na所以光刻机的革命主要发生在这样几个方面[2－8]：大na非球面镜光学系统，短波长光源，分辨率增强技术（降低k1因子），同步扫描工件台等。

光刻机?

光刻机/紫外曝光机（mask aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 mask alignment system.高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰asml（镜头来自德国），日本nikon（intel曾经购买过nikon的高端光刻机）和日本canon三大品牌为主。

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