张家港晋宇达电子科技有限公司

半导体光刻技术f(2)准分子激光曝光

改善了折反射光学系统的性能

波长为157nm的f2准分子激光器的特点是带宽很窄，绍兴光刻机，cymer公司的产品，其带宽为0.6～0.7 pm，窄带宽改善了折反射光学系统的性能。折反射光学系统的关键是分束器立方体，福州光刻机，它使用caf2材料，能有效地减少束程和系统的体积，大尺寸易碎的caf2一直是157nm曝光的制约因素，现在svgl已展出了12～15英寸的caf2单晶锭，这为制造大数值孔径的折反射分束器设计扫清了道路。

张家港晋宇达电子科技有限公司

硅片直径300mm　要适合多代技术的需求

经济利益的驱动是硅片直径由200mm向300mm转移的主要因素，深圳光刻机，300mm的出片率是200mm的2.5倍，单位生产成本降低30%左右。300mm工厂投资为15到30亿美元，光刻机，其中约75%用于设备投资，因此用户要求设备能向下延伸3至4代。300mm片径是从180nm技术节点切入的，这就要求设备在150 nm、130nm，甚至100nm仍可使用。

光刻机_晋宇达_无锡光刻机由张家港晋宇达电子科技有限公司提供。光刻机_晋宇达_无锡光刻机是张家港晋宇达电子科技有限公司（www.）今年全新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取新的信息，联系人：常学辉。