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投影式曝光（projection printing）:在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移

优点：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影响减小。

投影式曝光分类：

扫描投影曝光（scanning project printing）。70年代末～80年代初，上海尼康步进光刻机，〉1μm工艺；掩膜板1：1，全尺寸；

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所有人都知道英特尔作为半导体的领军企业，但新型半导体工艺的实现并不是intel一家就能做到的，背后默默贡献半导体设备的功臣却往往不为人所知。arete research llc公司的分析师jagadish iyer在一份报告中指出，intel即将终决定22nm光刻工艺设备的供应商，尼康步进光刻机，终入围的是荷兰asml holding nv和日本尼康两家。其实在更早的45nm世代，张家港尼康步进光刻机，asml和尼康也曾双双成为intel的光刻设备供应商，但在32nm节点上intel应用了沉浸式光刻技术，只有尼康一家提供相关设备。

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