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光刻机对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜。为了增强显微镜的视场,许多高端的光刻机,杭州尼康步进光刻机,采用了led照明。对准系统共有两套,常州步进光刻机,具备调焦功能。主要就是由双目双视场对准显微镜主体、目镜和物镜各1对(光刻机通常会提供不同放大倍率的目镜和物镜供用户组合使用)。


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所有人都知道英特尔作为半导体的领军企业,但新型半导体工艺的实现并不是intel一家就能做到的,光刻机,背后默默贡献半导体设备的功臣却往往不为人所知。arete research llc公司的分析师jagadish iyer在一份报告中指出,intel即将终决定22nm光刻工艺设备的供应商,终入围的是荷兰asml holding nv和日本尼康两家。其实在更早的45nm世代,asml和尼康也曾双双成为intel的光刻设备供应商,但在32nm节点上intel应用了沉浸式光刻技术,只有尼康一家提供相关设备。


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