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光刻机对准系统编辑制造高精度的对准系统需要具有近乎的精密机械工艺，福州半导体前道设备，这也是国产光刻机望其项背的技术难点之一，许多美国德国品牌光刻机具有特殊的机械工艺设计。例如mycro n&q光刻机采用的全气动轴承设计技术，绍兴半导体前道设备，有效避免轴承机械摩擦所带来的工艺误差。

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半导体光刻技术f(2)准分子激光曝光

改善了折反射光学系统的性能

波长为157nm的f2准分子激光器的特点是带宽很窄，深圳半导体前道设备，cymer公司的产品，其带宽为0.6～0.7 pm，窄带宽改善了折反射光学系统的性能。折反射光学系统的关键是分束器立方体，它使用caf2材料，能有效地减少束程和系统的体积，半导体前道设备，大尺寸易碎的caf2一直是157nm曝光的制约因素，现在svgl已展出了12～15英寸的caf2单晶锭，这为制造大数值孔径的折反射分束器设计扫清了道路。

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