手机站 
张家港晋宇达电子科技有限公司
投影式曝光（projection printing）:在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移
优点：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影响减小。
投影式曝光分类：
扫描投影曝光（scanning project printing）。70年代末～80年代初，上海步进光刻机，〉1μm工艺；掩膜板1：1，步进光刻机，全尺寸；
张家港晋宇达电子科技有限公司
光刻机/紫外曝光机（mask aligner) 又名：掩模对准曝光机，张家港步进光刻机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 mask alignment system.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
厦门步进光刻机|晋宇达(在线咨询)|步进光刻机由张家港晋宇达电子科技有限公司提供。张家港晋宇达电子科技有限公司（www.）是江苏 苏州 ,其它的翘楚，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，很大限度的满足客户需求。在晋宇达领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创晋宇达更加美好的未来。
京公网安备11010802030469号