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光刻机?
光刻机/紫外曝光机（mask aligner) 又名：掩模对准曝光机，半导体前道设备，曝光系统，深圳半导体前道设备，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，厦门半导体前道设备，所以叫 mask alignment system.
性能指标
光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
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? ? ?光刻机的匹配使用是指同一产品不同的工艺图层可以分别在不同型号或同一型号不同系列的光刻机上进行光刻，而不影响光刻工艺的质量。场镜误差的匹配性终反映在民机场内套刻误差的差异性上，因为每种透镜均有一个特征畸变图形，其位置误差作为曝光像场位置的一种函数。
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